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      【百家大講堂】第339期:“中國芯“制造面臨挑戰(zhàn)和機(jī)會

      發(fā)布日期:2020-12-11

      講座題目:“中國芯“制造面臨挑戰(zhàn)和機(jī)會

      主講人:吳漢明院士

      時間:2020年12月14日15:30

      地點(diǎn):信息科學(xué)實(shí)驗(yàn)樓202報告廳

      主辦單位:信息與電子學(xué)院 ??茀f(xié)

      主講人簡介:


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      吳漢明,中國工程院院士,浙江大學(xué)微納電子學(xué)院院長。芯創(chuàng)智(北京)微電子有限公司董事長。

      吳漢明院士,1976年畢業(yè)于中國科學(xué)技術(shù)大學(xué);1987年畢業(yè)于中國科學(xué)院力學(xué)研究所,獲博士學(xué)位。曾在美國UC-Berkeley進(jìn)行博士后研究,并先后入職Intel、中芯國際等公司作為技術(shù)骨干從事集成電路制造工藝研發(fā),曾任中芯國際研發(fā)副總裁。

      吳漢明院士長期工作在我國集成電路產(chǎn)業(yè)鏈重要環(huán)節(jié),并作出突出貢獻(xiàn)。主持、指導(dǎo)了包括國家重大專項(xiàng)的0.13微米至14納米七代芯片工藝研發(fā),負(fù)責(zé)攻克了包括刻蝕等一系列關(guān)鍵工藝難點(diǎn),工藝集成后實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化。突破了長期以來我國高端芯片工藝完全依賴進(jìn)口的制約,與世界水平差距明顯縮小。負(fù)責(zé)我國首臺刻蝕機(jī)研發(fā)項(xiàng)目的理論工作,并成功產(chǎn)業(yè)化。建立的非平衡低溫等離子體混合模型/整體模型成為工藝?yán)碚撘罁?jù),并作為教案被世界著名大學(xué)公開發(fā)行的教科書采用。發(fā)表著作論文116篇。授權(quán)發(fā)明專利67項(xiàng)。曾獲得“北京學(xué)者”、“十佳全國優(yōu)秀科技工作者” 和“全國杰出專業(yè)技術(shù)人才”等榮譽(yù)。作為主要成員,三次獲國家科技二等獎,多次獲省部科技獎。